この研究は、培養ヒト線維芽細胞を用いて、小核(MN)および染色体異常誘導に対する断続的なELF磁界へのばく露(50 Hz、正弦波、5 分間オン/10 分間オフ、ばく露時間2-24 時間、1 mT)の影響を調べた。ミューメタル製の箱の中にばく露実験および擬似ばく露実験用のそれぞれのコイルシステムを入れ、両システムとも37 ℃のインキュベータ内で管理された。コイル電流は、ばく露実験装置ではパラレル、擬似ばく露実験装置ではアンパラレルに流した。結果として、 ELF-EMFばく露により、ばく露時間依存的な小核の増加がもたらされた;それは、磁束密度1 mT、10 時間の断続ばく露で有意となった;約15時間のばく露時間で、小核増加は一定レベルに達し、それは基底レベルの約3倍であった;染色体異常は基底レベルの10倍まで増加した、と報告している。
ばく露 | パラメータ |
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ばく露1:
50 Hz
ばく露時間:
intermittent, 5 min on/10 min off for 2 to 24 h
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周波数 | 50 Hz |
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タイプ |
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波形 |
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ばく露時間 | intermittent, 5 min on/10 min off for 2 to 24 h |
ばく露の発生源/構造 |
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ばく露装置の詳細 | Each coil system was placed in a µ-metal box with the current in the coils switched parallel for exposure or anti-parallel for sham exposure. Both systems were placed in an incubator maintained at 37°C. |
測定量 | 値 | 種別 | Method | Mass | 備考 |
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磁束密度 | 1 mT | unspecified | 測定値 | - | - |
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