この研究は、ELF-EMFばく露によるDNA損傷の受けやすさは老化により高まるのか、あるいは年齢とともにDNA修復効率は低下するのかという疑問を検討した。その結果、断続的なELF-EMF(50 Hz正弦波、1 mT)のばく露を1〜24時間受けた異なる年齢の6人の健康なドナーの培養線維芽細胞での基礎的なDNA鎖切断レベルは、年齢と相関した;細胞は、15〜19時間のばく露で最大の反応を示した;この反応は、年齢の高いドナーの細胞の方が明らかにより顕著であった;このことは、ELF-EMFに誘導されるDNA鎖切断におけるDNA修復効率の年齢依存性の低下を示している可能性がある、と報告している。
ばく露 | パラメータ |
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ばく露1:
50 Hz
ばく露時間:
intermittent, 5 min on/10 min off for 1-24 h in 1 h steps.
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周波数 | 50 Hz |
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タイプ |
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波形 |
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ばく露時間 | intermittent, 5 min on/10 min off for 1-24 h in 1 h steps. |
測定量 | 値 | 種別 | Method | Mass | 備考 |
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磁束密度 | 1 mT | unspecified | 指定なし | - | - |
DNA鎖切断はばく露時間と共に増加し、15-19時間で最大であった。DNA鎖切断のレベルはその後低下したが、基底レベルには戻らなかった。
異なる提供者の細胞株は、DNA鎖切断の規定レベル、最大値及び最終的なレベルが異なった。
高齢者からの線維芽細胞には、より高いDNA鎖切断レベルが認められ、より若い提供者からのものよりも低下開始が遅かった。
これらの知見は、超低周波電磁界によって生じたDNA鎖切断に対するDNA修復効率の年齢に関連した鈍化を示唆するものである。
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