この研究は、質問票調査によるばく露評価を用いた症例対照研究により、脳腫瘍とそのリスク候補因子(電離放射線ばく露および携帯電話使用)の関連を調べた。ウプサラ-オレブロ地域(1994-1996) またはストックホルム地域(1995-1996)に住み、病理組織学的に確定診断された脳腫瘍患者で現在生存している233人(20〜80歳の男女)を症例とし、それぞれの症例にマッチした2人の対照がスウェーデンの人口登録から選出された。その結果、合計209の症例(参加率90 %)と425の対照(同90 %)がアンケートに回答した;職業が医師であること(ばく露症例3に基づく)の脳腫瘍のオッズ比(OR)は6.00、95 %信頼区間(CI)は0.62-57.7であった;頭頸部領域の放射線療法のORは3.61(95 %CI、0.65-19.9);携帯電話の同側使用は、OR = 2.42; 95 %CI、0.97-6.05)、など多数のリスク推定値を報告している。しかし、そのリスク推定値の多くは、信頼区間が1を跨ぎ、かつ非常に幅広い。また時間関係の不明確な因子など、議論の余地があると思われる。
本研究では、脳腫瘍のリスクと携帯電話使用、電離放射線被ばく及び化学物質ばく露についてのスウェーデンの症例対照研究(publication 1015 参照)のデータベースについての更なる分析を実施した。
更に、同じ症例対照研究のデータベース(publication 1015) in publication 9009)について追加的な、同様の分析を行った。
グループ | 説明 |
---|---|
集団 1 | 腫瘍部位の脳半球、同側での携帯電話使用 |
集団 2 | 腫瘍部位の脳半球、反対側での使用 |
集団 3 | 腫瘍部位の脳半球、同側及び反対側での使用 |
集団 4 | 腫瘍部位、前頭、前頭頭頂、頭頂、または頭頂後頭、同側使用 |
集団 5 | 腫瘍部位、前頭、前頭頭頂、頭頂、または頭頂後頭、反対側使用 |
集団 6 | 腫瘍部位、前頭、前頭頭頂、頭頂、または頭頂後頭、同側及び反対側使用 |
集団 7 | 腫瘍部位、側頭、後頭または側頭頭頂、同側使用 |
集団 8 | 腫瘍部位、側頭、後頭または側頭頭頂、反対側使用 |
集団 9 | 腫瘍部位、側頭、後頭または側頭頭頂、同側及び反対側使用 |
症例 | 対照 | |
---|---|---|
適格者 | 270 | - |
連絡担当者 | 233 | 466 |
参加者 | 217 | 439 |
評価可能 | 209 | 425 |
EMF-Portalでは電磁界へのばく露に関する結果のみを示す。
超低周波電磁界に潜在的にばく露される職業(例:電気技師、エレクトロニクス工事、保線技師、または通信工事)と脳腫瘍のリスクとの関連は認められなかった。画像表示端末の使用はリスクを高めなかった。マイクロ波のばく露量が最も高い解剖学的部位に、携帯電話使用と同側での脳腫瘍のリスク上昇が認められた。
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