超低周波(ELF)電磁界は明確な職業的発がん因子として知られていないが、一部の研究では、細胞株に対するその遺伝毒性作用が報告されている。この横断的研究は、DNA損傷に対するELF電磁界への長期的な職業的ばく露の影響を調べた。ばく露群として火力発電所作業者102人、及び非ばく露群としての被験者136人から血液サンプルを採取し、アルカリ・コメット分析及びフローサイトメトリでDNA損傷を評価した。ELF電磁界ばく露はスポット測定及びIEEE C95.3.1規格に基づいて測定した。その結果、ばく露群では非ばく露群と比較して、コメットテイルDNA%、コメットテイルファクター(%)、ダメージ指標が有意に高かった。磁界ばく露の増加は、コメットテイル長以外のコメット分析の指標を強めた。電界ばく露にはこれらの指標への有意な影響はなかった。磁界ばく露による初期及び後期アポトーシス段階の細胞のパーセンテージは、それぞれ有意に減少及び増加した。これらの結果から、ELF電磁界への長期的な職業的ばく露はおそらく遺伝毒性作用を生じ得る、と著者らは結論付けている。
ばく露 | パラメータ |
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ばく露1:
ばく露時間:
at least two years work experience in a full-time job at the power plant
low magnetic field exposure
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ばく露2:
ばく露時間:
at least two years work experience in a full-time job at the power plant
medium magnetic field exposure
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ばく露3:
ばく露時間:
at least two years work experience in a full-time job at the power plant
high magnetic field exposure
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ばく露4:
ばく露時間:
at least two years work experience in a full-time job at the power plant
low electric field exposure
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ばく露5:
ばく露時間:
at least two years work experience in a full-time job at the power plant
medium electric field exposure
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ばく露6:
ばく露時間:
at least two years work experience in a full-time job at the power plant
high electric field exposure
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ばく露の発生源/構造 |
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ばく露装置の詳細 | each worker stated their working and non-working spots (e.g. their places of resting and eating lunch) during a normal work shift and the amount of time they spend at each spot; measurements were conducted at these spots at a height of 1 m above ground Ievel and for 2 min; the control group was mainly exposed to electric fields and magnetic fields generated by power lines, computers and appliances at the workplaces |
測定量 | 値 | 種別 | Method | Mass | 備考 |
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磁束密度 | 11.3 µT | maximum | 測定値および計算値 | - | - |
ばく露の発生源/構造 |
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ばく露の発生源/構造 |
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