この研究は、超低周波(ELF)電磁界への職業ばく露と神経膠腫のリスクとの関連を調べた。生涯の職業を、1997-2003年および2007-2009年の症例対照研究で評価した。ELF電磁界の職業‐ばく露マトリクスを用いて、職業とELFばく露を関連付けた。累積ばく露(μT-年)、平均ばく露(μT)、最大ばく露された職業(μT)を計算した。その結果、累積ばく露は、それぞれ2.75および6.59μT-年を超える最大ばく露カテゴリーにおいて、1-14年間の時間窓でのグレードIVの星状細胞腫(多形神経膠芽腫)に対するオッズ比(OR)=1.9、95%信頼区間(CI)=1.4-2.6(p値の線形傾向<0.001)、15年超の時間窓でOR=0.9、95%CI=0.6-1.3(p値の線形傾向=0.44)を生じた。著者らは、ELF電磁界への職業ばく露について、グレードIVの星状細胞腫の後期(プロモーション/プログレッション)におけるリスク上昇が認められた、と結論付けている。
グループ | 説明 |
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参照集団 1 | cumulative exposure: < 2.33 µT-years |
集団 2 | cumulative exposure: 2.33 - < 3.79 µT-years |
集団 3 | cumulative exposure: 3.79 - < 5.55 µT-years |
集団 4 | cumulative exposure: 5.55 - < 8.52 µT-years |
集団 5 | cumulative exposure: ≥ 8.52 µT-years |
参照集団 6 | average exposure: < 0.11 μT |
集団 7 | average exposure: 0.11 - < 0.13 μT |
集団 8 | average exposure: 0.13 - < 0.18 μT |
集団 9 | average exposure: 0.18 - < 0.27 μT |
集団 10 | average exposure: ≥ 0.27 μT |
参照集団 11 | maximum exposed job: < 0.13 μT |
集団 12 | maximum exposed job: 0.13 - < 0.16 μT |
集団 13 | maximum exposed job: 0.16 - < 0.24 μT |
集団 14 | maximum exposed job: 0.24 - < 0.60 μT |
集団 15 | maximum exposed job: ≥ 0.60 μT |
症例 | 対照 | |
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参加者 | 1,346 | 3,485 |
参加率 | 86 % | 86 % |
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