【目的】今回の集団症例対照研究は、低周波磁界への職業ばく露と低悪性度神経膠腫(LGG)および高悪性度神経膠腫(HGG)の危険性に関係があるかどうかを調査する目的で行われた。【方法】調査対象集団は、1987年7月～1991年12月に初回診断を受け、組織学的に神経膠腫と確認された414症例群(LGG=110、HGG＝304)と、年齢、性別、居住地郵便番号を対応させたオーストラリア、メルボルンからの421対照群で構成された。詳しい職歴は各被験者から得られた。低周波磁界へのばく露は、自己報告、衛生学専門家による審査、職業ばく露マトリクス(JEM)の3つの方法で評価された。【結果】ばく露が衛生学専門家によって評価された場合、全神経膠腫とHGGにおいては、統計的に有意ではない危険性の上昇が確認された。衛生学専門家によって評価された場合の最も高いばく露の労働者群のオッズ比(OR)は、全神経膠腫では1.4[95％信頼区間(CI):0.85-2.27]、HGGでは1.51[95％信頼区間(CI):0.90-2.53]となった。LGG、HGGの両方において、自己報告とJEMは逆相関を示したが、これはこれらのばく露評価方法の限界が反映された結果と思われる。【結論】今回の結果では、LGGやHGGの発症における低周波磁界への職業ばく露の役割は示されなかった。
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