この研究は、比較的低レベルの超低周波磁界へのばく露（50 Hz ELF MF、0.4 mT、ばく露時間2、6、12、24、48時間）が、培養したヒトの水晶体上皮細胞（LECs）にDNA損傷を誘発するか否かを調べた。ばく露群および擬似ばく露群でのDNA損傷を、γH2AX fosi形成の免疫蛍光アッセイ、ウェスタンブロット法、フローサイトメトリ、アルカリコメットアッセイで測定した。その結果、全てのばく露時間の終了後において、ばく露群でのγH2AX fosi形成の有意な上昇は見られなかった；γH2AX発現レベルにも、ばく露群と擬似ばく露群で有意差がなかった；ばく露群では、アルカリコメットアッセイによる顕著な染色体DN断片化が見られなかった、と報告している。
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The genotoxic effects of exposure of human lens epithelial cells to a 50 Hz magnetic field should be investigated.
| 周波数 | 50 Hz |
|---|---|
| タイプ |
|
| ばく露時間 | continuous for 2 h, 6 h, 12 h, 24 h or 48 hours |
| ばく露の発生源／構造 | |
|---|---|
| チャンバの詳細 | two chambers with two identical coil systems placed inside a cell culture incubator |
| ばく露装置の詳細 | temperature was constantly monitored and controlled and differences between two chambers were <0.1°C; the external computer controlling system enabled application of blind method |
| Sham exposure | A sham exposure was conducted. |
| Additional information | one coil in one chamber was connected in-phase to generate the magnetic field for exposure, while there was an opposite phase connection in another chamber for sham exposure |
| 測定量 | 値 | 種別 | Method | Mass | 備考 |
|---|---|---|---|---|---|
| 磁束密度 | 0.4 mT | - | - | - | - |
No significant differences in DNA single-strand breaks or double-strand breaks were detected in exposed cells compared to cells of the control group regardless of the exposure duration.
The authors conclude that there were no genotoxic effects of exposure of human lens epithelial cells to a 50 Hz magnetic field.
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