Bitte beachten Sie, dass eine Publikation mehreren Endpunkten zugeordnet sein kann, d.h. die Summe der Publikationen aus den einzelnen thematischen Punkten und Unterpunkten kann größer als die Gesamtsumme der tatsächlichen Publikationen sein.
| Autoren | Jahr | Exponiertes System | Parameter | Magnetische Flussdichte/Feldstärke |
|---|---|---|---|---|
| Testa A et al. | 2004 | Blut-Proben | magnetisches Feld, Niederfrequenz, 50/60 Hz | 1 mT |
| Li SH et al. | 2001 | DNA/RNA (in vitro), Bakterien (in vitro), Plasmid pUC18, <i>Escherichia coli</i>/XL1-Blue transformiert mit dem Plasmid pUC18 | magnetisches Feld, 50/60 Hz | 1,2 mT |
| Harada S et al. | 2001 | DNA/RNA (in vitro), HeLa (DNA mismatch repair-kompetentes Zell-Extrakt) | magnetisches Feld, 50/60 Hz | 0,25–1 T |
| Koyama S et al. | 2005 | DNA/RNA (in vitro), Plasmide | magnetisches Feld, 50/60 Hz, Ko-Exposition | 5 mT |
| Luo Q et al. | 2006 | Embryo-Kulturen von der ICR-Maus | 50/60 Hz, magnetisches Feld, Niederfrequenz, Ko-Exposition | 0,3–0,5 mT |
| Zhou J et al. | 2016 | Gewebe-Kultur, Diaphyse- und Metaphyse-Gewebe des Oberschenkel-Knochens von Wistar-Ratten | magnetisches Feld, 50/60 Hz | 1,8 mT |
| Heredia-Rojas JA et al. | 2017 | Maus/BALB/c | magnetisches Feld, Niederfrequenz, 50/60 Hz, Ko-Exposition, auch andere Expositionen ohne EMF | - |
| Villarini M et al. | 2015 | Mensch | magnetisches Feld, 50/60 Hz, Hochspannungs-/Starkstrom-Gerät, Schweißgerät, berufliche Exposition | 0,03–170,78 µT |
| Zhang Y et al. | 2016 | Mensch | elektrisches Feld, magnetisches Feld, 50/60 Hz, Hochspannungsfreileitung, Umspannwerk, berufliche Exposition, Ko-Exposition | - |
| Zendehdel R et al. | 2019 | Mensch | magnetisches Feld, 50/60 Hz, berufliche Exposition | 4–50 µT |
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