Bitte beachten Sie, dass eine Publikation mehreren Endpunkten zugeordnet sein kann, d.h. die Summe der Publikationen aus den einzelnen thematischen Punkten und Unterpunkten kann größer als die Gesamtsumme der tatsächlichen Publikationen sein.
| Autoren | Jahr | Exponiertes System | Parameter | Magnetische Flussdichte/Feldstärke |
|---|---|---|---|---|
| Villarini M et al. | 2015 | Mensch | magnetisches Feld, 50/60 Hz, Hochspannungs-/Starkstrom-Gerät, Schweißgerät, berufliche Exposition | 0,03–170,78 µT |
| Zhang Y et al. | 2016 | Mensch | elektrisches Feld, magnetisches Feld, 50/60 Hz, Hochspannungsfreileitung, Umspannwerk, berufliche Exposition, Ko-Exposition | - |
| Zendehdel R et al. | 2019 | Mensch | magnetisches Feld, 50/60 Hz, berufliche Exposition | 4–50 µT |
| Hosseinabadi MB et al. | 2019 | Mensch | magnetisches Feld, Niederfrequenz, 50/60 Hz, berufliche Exposition | 11,3–18,9 µT |
| Bagheri Hosseinabadi M et al. | 2020 | Mensch | elektrisches Feld, magnetisches Feld, 50/60 Hz, berufliche Exposition | 16,5 µT |
| Nguyen H et al. | 2024 | Mensch | magnetisches Feld, 50/60 Hz, berufliche Exposition, persönliches Umfeld | - |
| Bauchinger M et al. | 1981 | Mensch, Ganzkörperexposition | elektrisches Feld, magnetisches Feld, 50/60 Hz, Umspannwerk, berufliche Exposition | - |
| Valjus J et al. | 1993 | Mensch, Ganzkörperexposition | elektrisches Feld, magnetisches Feld, 50/60 Hz, Hochspannungsfreileitung, Umspannwerk, berufliche Exposition | - |
| Skyberg K et al. | 2001 | Mensch, Ganzkörperexposition | elektrisches Feld, magnetisches Feld, 50/60 Hz, Umspannwerk, berufliche Exposition, Ko-Exposition | 3 µT–7 mT |
| Erdal N et al. | 2005 | Mensch, Ganzkörperexposition | elektrisches Feld, magnetisches Feld, 50/60 Hz, Hochspannungsfreileitung, berufliche Exposition | - |
| Albert GC et al. | 2009 | Mensch, Ganzkörperexposition | magnetisches Feld, 50/60 Hz | 200 µT |
| Khalil AM et al. | 1993 | Mensch, Ganzkörperexposition | elektrisches Feld, magnetisches Feld, 50/60 Hz, Hochspannungsfreileitung, berufliche Exposition | - |
| Celikler S et al. | 2009 | Mensch, Ganzkörperexposition | elektrisches Feld, magnetisches Feld, 50/60 Hz, Hochspannungsfreileitung, Umspannwerk, berufliche Exposition | 0,25–17 A/m |
| Dominici L et al. | 2011 | Mensch, Ganzkörperexposition | magnetisches Feld, 50/60 Hz, Hochspannungs-/Starkstrom-Gerät, Schweißgerät, berufliche Exposition | 0,03–345,06 µT |
| Balamuralikrishnan B et al. | 2012 | Mensch, Ganzkörperexposition | elektrisches Feld, magnetisches Feld, 50/60 Hz, Hochspannungsfreileitung, Umspannwerk, berufliche Exposition | 0,25–17 A/m |
| Tiwari R et al. | 2015 | Mensch, Ganzkörperexposition | elektrisches Feld, magnetisches Feld, Niederfrequenz, 50/60 Hz, Umspannwerk, berufliche Exposition | - |
| Gadhia P et al. | 2010 | Mensch, Ganzkörperexposition | magnetisches Feld, 50/60 Hz, berufliche Exposition, Ko-Exposition | - |
| Ignataviciene I et al. | 2024 | Pflanze, <i>Lemna minor</i> L. (Wasserlinse) | 50/60 Hz, magnetisches Feld | - |
| Fatigoni C et al. | 2005 | Pflanze, <i>Tradescantia</i> (Pflanzenstecklinge (Blütenstände) des Klons #4430), Ganzkörperexposition | magnetisches Feld, 50/60 Hz | 1 mT |
| Rapley BI et al. | 1998 | Pflanze, Dicke Bohne (<i>Vicia faba</i> L.) (Keimlinge) | magnetisches Feld, statisches Magnetfeld, Niederfrequenz, 50/60 Hz | 1,5–5 mT |
| Gaafar RM et al. | 2018 | Pflanze, Dicke Bohne (<i>Vicia faba</i>) | 50/60 Hz, Hochspannungsfreileitung, magnetisches Feld, elektrisches Feld | 720–4.051 µT |
| Abdelhaliem EM et al. | 2022 | Pflanze, Mais (<i>Zea mais</i>) | 50/60 Hz, magnetisches Feld | - |
| Shabrangi A et al. | 2011 | Pflanze, Mais (<i>Zea mays</i> L.) | magnetisches Feld, Niederfrequenz, 50/60 Hz | - |
| Koyama S et al. | 2004 | Plasmid | magnetisches Feld, 50/60 Hz, Ko-Exposition | 5 mT |
| Lopucki M et al. | 2005 | Plazenta-Probe (Kotyledon) | magnetisches Feld, 50/60 Hz | 2–5 mT |
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