この研究は、1.9 GHzのパルス変調RF電磁界へのばく露が、ヒト膠芽腫細胞U87MGの全遺伝子発現に影響を与えるか否かを調べた。パルス変調RF電磁界の影響は、SARレベル0.1、1.0、10.0 W / kg、ばく露時間は4時間で評価された。その結果、非熱的レベルのRF電磁界は、無ばく露対照群と比較して、培養U87MG細胞の遺伝子発現に影響を与える可能性があるという証拠は見られなかった;それに対し、43 ℃で1時間の熱ショックへのばく露は、典型的なストレス応答遺伝子をいくつか発現増加させた、と報告している。
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To assess the ability of exposure to a 1.9 GHz pulse modulated radiofrequency field to affect gene expression in glioblastoma cells.
Positive controls were performed at 43°C (1 h).
周波数 | 1.9 GHz |
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タイプ |
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特性 |
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偏波 |
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ばく露時間 | continuous for 4 h |
Modulation type | pulsed |
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Duty cycle | 33.3 % |
Repetition frequency | 50 Hz |
ばく露の発生源/構造 |
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チャンバの詳細 | The temperature in the cell cultures was maintained at 37.0 ± 0.5°C by a mixture of prewarmed 95% air and 5% CO2. |
ばく露装置の詳細 | Cells were exposed in 10 ml of culture medium in 60-mm Petri dishes using a series of six circularly polarized cylindrical waveguides. |
Sham exposure | A sham exposure was conducted. |
Additional information | Negative and positive (heat shock) controls were run concurrently with each experiment. |
The data provided no evidence that non-thermal radiofrequency fields can affect gene expression in cultured U87MG cells in comparison to the control groups, whereas exposure to heat shock at 43°C up-regulated a number of typical stress-responsive genes in the positive control group.
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