この研究は、RT-Differential Display法を用いて、超低周波磁界(ELF MF、60 Hz、0.7 mT)ばく露を受けたクロム親和性細胞の全体の転写プロファイルに変化が現れるか否かを調べた。その結果、神経成長因子(NGF)およびELF MFの処置を受けたグループでの遺伝子発現パターンをそれらの処置なしのグループのものと比較すると、差次的発現がある転写産物が少なくとも53種の検出された;6つの遺伝子に対応する8つのRT-PCR産物を再増幅し、シーケンスし、ラット遺伝子バンクと比較したところ、配列分析により、これらの遺伝子は、ホスホグルコムターゼ-1、神経線維腫症-2相互作用タンパク質、微小管関連タンパク質-2、チアミンピロホスホキナーゼ、および2つの正体不明の仮想タンパク質をエンコードする可能性が最も高かった、と報告している。
超低周波磁界にばく露したクロム親和性細胞の交感神経ニューロン様細胞への分化は、パイロット研究(publication 3576)で証明されており、分子遺伝学的レベルで更に調査すべきである。
使用したクロム親和性細胞は新生Wistarラットから取得したもので、以下の3群で調査した:1) 偽ばく露、2) 神経成長因子(NGF)処理、3) 電磁界ばく露。
ばく露 | パラメータ |
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ばく露1:
60 Hz
ばく露時間:
repeated daily exposure, 4 h/day for 7 days
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周波数 | 60 Hz |
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タイプ |
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波形 |
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ばく露時間 | repeated daily exposure, 4 h/day for 7 days |
測定量 | 値 | 種別 | Method | Mass | 備考 |
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磁束密度 | 700 µT | unspecified | 測定値 | - | - |
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