Design and fabrication of well confined uniform magnetic field exposure systems tech./dosim.

[Design und Herstellung von Expositionssystemen für gut begrenzte, gleichförmige Magnetfelder]

Von: Wilson BW, Caputa K, Stuchly MA, Saffer JD, Davis KC, Washam CE, Washam LG, Washam GR, Wilson MA
Veröffentlicht in: Bioelectromagnetics 1994; 15 (6): 563-577
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Exposition