Bitte beachten Sie, dass eine Publikation mehreren Endpunkten zugeordnet sein kann, d.h. die Summe der Publikationen aus den einzelnen thematischen Punkten und Unterpunkten kann größer als die Gesamtsumme der tatsächlichen Publikationen sein.
| Autoren | Jahr | Exponiertes System | Parameter | Magnetische Flussdichte/Feldstärke |
|---|---|---|---|---|
| Heredia-Rojas JA et al. | 2017 | Maus/BALB/c | magnetisches Feld, Niederfrequenz, 50/60 Hz, Ko-Exposition, auch andere Expositionen ohne EMF | - |
| Verschaeve L et al. | 2019 | intakte Zelle/Zellkultur (in vitro), menschliche hepatische C3A-Zellen | magnetisches Feld, 50/60 Hz, Niederfrequenz | - |
| Heredia-Rojas JA et al. | 2018 | Tier, Maus/BALB/c | magnetisches Feld, Niederfrequenz, 50/60 Hz, Umspannwerk | - |
| Budak M et al. | 2023 | Tier, Ratte/Wistar | magnetisches Feld, 50/60 Hz, Niederfrequenz | - |
| Ignataviciene I et al. | 2024 | Pflanze, <i>Lemna minor</i> L. (Wasserlinse) | 50/60 Hz, magnetisches Feld | - |
| Nguyen H et al. | 2024 | Mensch | magnetisches Feld, 50/60 Hz, berufliche Exposition, persönliches Umfeld | - |
| Calabro E et al. | 2024 | intakte Zelle/Zellkultur (in vitro), SH-SY5Y (humane Neuroblastom-Zelllinie) | magnetisches Feld, 50/60 Hz, statisches Magnetfeld | - |
| Worel N et al. | 2024 | intakte Zelle/Zellkultur (in vitro), Jurkat Zellen (Klon E6-1; T-Lymphozyten-Hybridom-Zelllinie), 132-1N1 (menschliche Astrozytom-Zelllinie) | Mobilfunk, Mobiltelefon, UMTS, magnetisches Feld, 50/60 Hz, berufliche Exposition, auch andere Expositionen ohne EMF, Ko-Exposition | - |
| Li Y et al. | 2014 | intakte Zelle/Zellkultur (in vitro), Kulturmedium, K562- und HEL 92.1.7- Zellen (menschliche erythroleukämische Zelllinien), MCF-7- Zellen (menschliche Brustkrebs-Zelllinie), NCI-H460-Zellen (menschliche Lungenkrebs-Zelllinie), Colo 320 DM-Zellen (menschliche Kolon-Karzinom-Zelllinie) | magnetisches Feld, statisches Magnetfeld, 50/60 Hz, Abschirmung/Feld-Entzug | 4 nT–74 µT |
| Villarini M et al. | 2015 | Mensch | magnetisches Feld, 50/60 Hz, Hochspannungs-/Starkstrom-Gerät, Schweißgerät, berufliche Exposition | 0,03–170,78 µT |
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