この研究は、先行研究の知見(ヒトの姿勢性振戦は低周波磁界(ELF-MF)ばく露に敏感である)を背景に、二重ブラインド化、ばく露/擬似ばく露プロトコルを用いた試験で、24人の被験者のELF MFの「オン」および「オフ」条件下での姿勢性振戦を評価した。3つの振戦特性について、振戦の変化方向が被験者別に分析された。その結果、高振幅振戦を示す被験者はMFばく露により反応しやすいように見えた;MFには即時的な影響(「オン」条件と「オフ」条件の間)と、より遅発性の永続的な影響(「ばく露」条件と「擬似ばく露」条件の間)もあった;どちらもその差はわずかであった;被験者内および被験者間の変動のため、統計学的分析を行うことはできなかった、と報告している。
24人の健康な、磁界に対して過敏症でないと自己申告した20-50歳の男性が、65分間のセッションに参加した。被験者には、人差し指を固定位置に保持するよう依頼し、その間にオン/オフのセットアップが異なる磁界下で体位性振戦を記録した。
ばく露 | パラメータ |
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ばく露1:
50 Hz
ばく露時間:
14 min exposure, 3 min rest, 14 min sham exposure, 3 min rest, 14 min exposure, 3 min rest, 14 min sham exposure
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被験者内及び被験者間のばらつきの大きさのため、統計的分析は実施できなかった。被験者は振戦の振幅に関して、「高」及び「低」振幅の振戦の2群に分けられた。高振幅の振戦の被験者は、低振幅の振戦の被験者と比較して、磁界ばく露に対してより敏感なようであった。
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