この研究は、パルス電界(PEF)の20分間ばく露を受けたインスリンをヒト肝細胞の培地に加え、ヒト肝細胞の増殖の変化を調べた。実験に用いたPEFは、パルス繰り返し周波数50 Hz、電界強度は約0.7 V / mであった。蛍光分光法、免疫細胞化学、マイクロアレイ法、RT-PCR、およびMTTなどの検査法を組み合わせて、リガンド-受容体結合能力、細胞内チロシンリン酸化レベル、遺伝子転写、細胞増殖など、インスリンシグナル伝達経路のいくつかの重要なイベントを分析した。その結果、PEFは、インスリン分子の構造変化を引き起こした;インスリンの受容体への結合能力は、PEFばく露により、対照レベルの87 %まで低下し、平均細胞内チロシンリン酸化レベルは11 %低下した;検査した12,000個の遺伝子のうち55個の発現に変化が見られた;その中には、ヒトチロシンホスファターゼおよび低分子量GTP結合タンパク質の発現の増加があった、と報告している。
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To study the effects and the mechanism of a pulsed electric field on insulin and its subsequent mediation of proliferative changes in human hepatocytes in vitro.
Insulin solution was exposed to pulsed electromagnetic field and added to the culture medium of hepatocytes. Insulin is usually added into the culture medium to accelerate cell growth.
ばく露 | パラメータ |
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ばく露1:
50 kHz
Modulation type:
pulsed
ばく露時間:
continuous for 10 min, 20 min and 40 min
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周波数 | 50 kHz |
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タイプ |
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波形 |
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ばく露時間 | continuous for 10 min, 20 min and 40 min |
Modulation type | pulsed |
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Pulse width | 20 µs |
Rise time | 12 µs |
Repetition frequency | 50 Hz |
ばく露の発生源/構造 |
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ばく露装置の詳細 | 96-well micro-plate containing insulin stock solution was placed between the two plates, which were 16 mm apart. |
Sham exposure | A sham exposure was conducted. |
測定量 | 値 | 種別 | Method | Mass | 備考 |
---|---|---|---|---|---|
電界強度 | 7.1 V/m | maximum | 推定値 | - | - |
Pulsed electric fields produced a conformational change of insulin molecule. The binding capacity of insulin to its receptors was reduced to 87% of the control level after pulsed electric field exposure. The average intracellular tyrosine phosphorylation level decreased by 11%. The expression of 55 of 12000 genes investigated was modified, including an increase in the expression of human tyrosine phosphatase and the small GTP-binding protein.
Based on these data, a mechanism is proposed to explain the biological effects of pulsed electric fields on hepatocyte proliferation through the insulin signaling pathway.
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