| Authors | Year | Exposed system | Parameters | Magnetic flux density/field strength |
|---|---|---|---|---|
| Bonhomme-Faivre L et al. | 1998 | ヒト, 全身 | 磁界, 50/60 Hz (AC), 職業的 | 200 nT–6.6 µT |
| Selmaoui B et al. | 1996 | ヒト, 全身 | 磁界, 50/60 Hz (AC) | 10 µT |
| Dasdag S et al. | 2002 | ヒト, 全身 | 磁界, 低周波電磁界, 50/60 Hz (AC), 職業的 | 100–250 µT |
| Ichinose TY et al. | 2004 | ヒト, 全身 | 磁界, 50/60 Hz (AC), 職業的 | 0.04–0.25 µT |
| Kula B et al. | 2002 | ヒト, 全身 | 電界, 磁界, 50/60 Hz (AC), 職業的 | 1.3 mT |
| Sobczak A et al. | 2002 | ヒト, 全身 | 電界, 磁界, 50/60 Hz (AC), 職業的 | 2 A/m |
| Di Giampaolo L et al. | 2006 | ヒト, 全身 | 磁界, 50/60 Hz (AC), 職業的 | 1.1–3.6 µT |
| Tiwari R et al. | 2015 | ヒト, 全身 | 電界, 磁界, 低周波電磁界, 50/60 Hz (AC), 変電所, 職業的 | - |
| Kula B et al. | 1999 | ヒト, 全身 | 電界, 磁界, 50/60 Hz (AC), 職業的 | 1.3 mT |
| Hosseinabadi MB et al. | 2019 | ヒト, 全身 | 低周波電磁界, 磁界, 50/60 Hz (AC), 職業的 | 3.5–172.6 µT |
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