この研究は、50 Hz、2 mT磁界(MF)ばく露と実験的にマウスに植え付けられた乳腺がん細胞の増殖との間の相互作用を調べた。2年間で6つの異なる実験プロトコル(ばく露のタイミングを変化させた)が実施された。陽性対照としてX線照射を採用した。腫瘍発生率および腫瘍発生時間を評価した。その結果、いかなる実験においても磁界の影響は観察されなかった;実験に用いたプロトコル間で、時間経過に関して統計的有意差はなかった;腫瘍細胞注入(植え付け)時期もばく露時間も、無ばく露群、擬似ばく露群、ばく露群の間に差を生じさせなかった;X線照射を与えた場合、電離放射線の細胞毒性効果は明らかであったが、それがMFばく露によっては増加または変化することはなかった、と報告している。
exposure was performed in the following way: i) 2 weeks before tumor injection ii) 2 weeks after tumor injection iii) 2 weeks before and 2 weeks after tumor injection iv) 2 weeks with tumor injection on the 3rd day of the 2nd week v) 2 weeks before tumor injection and 10 Gy single dose x-rays
周波数 | 50 Hz |
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タイプ |
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ばく露時間 | 6 h/day, 5 days/week, for 2 or 4 weeks |
ばく露の発生源/構造 | |
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Distance between exposed object and exposure source | 0.6 m |
ばく露装置の詳細 | set of 4 coils; Gilardoni machine with 0.5 mm Cu filter for x-ray exposure |
Sham exposure | A sham exposure was conducted. |
測定量 | 値 | 種別 | Method | Mass | 備考 |
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磁束密度 | 2 mT | - | - | - | - |
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