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キーワード: Mobilfunk, Mobilkommunikation, "mobile communication", "cellular radio", "mobile radio", セルラー無線, 移動無線

• 2023, Jiang Y, Wang H, Sun X, Li C, Wu T
  [確率論的ドシメトリおよびパラメトリックなヒトモデルに基づく環境中の電磁界への中国人の人口集団のばく露の評価] [tech./dosim.]
  Environ Sci Pollut Res 30 (14): 40445-40460
• 2023, Marasco I, Niro G, De Marzo G, Rizzi F, D’Orazio A, Grande M, De Vittorio M
  [持続可能なキトサン基板上のプラスチックフリーアンテナの設計と製造] [tech./dosim.]
  IEEE Electron Device Lett 44 (2): 341-344
• 2023, Rai AK, Jaiswal RK, Kumari K, Srivastava KV, Sim CYD
  [5Gモバイル端末用の広帯域モノポール8素子MIMOアンテナ] [tech./dosim.]
  IEEE Access 11: 689-696
• 2023, Wang H, Song L, Zhao L, Wang H, Xu X, Dong J, Zhang J, Yao B, Zhao X, Peng R
  [Wistarラットにおける空間記憶およびN-メチル-D-アスパラギン酸受容体経路に対する1.5 GHzマイクロ波ばく露の量‐反応効果] [med./bio.]
  Environ Sci Pollut Res 30 (13): 37427-37439
• 2023, Kapetanović AL, Sacco G, Poljak D, Zhadobov M
  [現実的な耳のモデルに対する面積平均化した透過および吸収電力密度] [tech./dosim.]
  IEEE J Electromagn RF Microw Med Biol 7 (1): 39-45
• 2023, Qureshi MRA, Alfadhl Y, Chen X
  [より高い周波数での通信システムの数値的ばく露評価] [tech./dosim.]
  Ur Rehman M, Jamshed MA (eds.): Low Electromagnetic Field Exposure Wireless Devices: Fundamentals and Recent Advances. Wiley-IEEE Press; pp. 49-75; ISBN 978-1-119-90916-3
• 2023, Adda S, Anglesio L, Bogo F, Pasquino N, Trinchero S
  [広帯域電磁界プローブに対する5G NR信号のインパクト] [tech./dosim.]
  IEEE Trans Instrum Meas 72: 1-8
• 2023, Jamshed MA, Héliot F, Brown TWC, Ur Rehman M
  [電磁界ばく露：基礎および重要な実践] [basics]
  Ur Rehman M, Jamshed MA (eds.): Low Electromagnetic Field Exposure Wireless Devices: Fundamentals and Recent Advances. Wiley-IEEE Press; pp. 1-18; ISBN 978-1-119-90916-3
• 2023, Jamshed MA, Héliot F, Brown TWC
  [低電磁界NOMAシステム用の教師なし学習に基づくリソース配分] [tech./dosim.]
  Ur Rehman M, Jamshed MA (eds.): Low Electromagnetic Field Exposure Wireless Devices: Fundamentals and Recent Advances. Wiley-IEEE Press; pp. 187-211; ISBN 978-1-119-90916-3
• 2023, Jamshed MA, Héliot F, Brown TWC, Ur Rehman M
  [低電磁界ユーザー近接デバイスの今後の課題] [basics]
  Ur Rehman M, Jamshed MA (eds.): Low Electromagnetic Field Exposure Wireless Devices: Fundamentals and Recent Advances. Wiley-IEEE Press; pp. 225-236; ISBN 978-1-119-90916-3