歯髄細胞は多能性間質幹細胞(MSC)の源の一つとして知られており、骨髄由来幹細胞(BMSC)と比較して、侵襲性がより低く、利用可能性がより高いプロセスで入手することができる。この研究は、ヒト歯髄幹細胞(hDPSC)の増殖率に対する超低周波(ELF)電磁界の影響を調べた。単巻変圧器、マルチメーター、ソレノイドコイル、テスラメータおよびプローブを備えた装置で発生させた0.5および1 mTの50 Hz磁界に、細胞を20および40分間/日、7日間ばく露した。MTTアッセイ[訳注:メチルチアゾールテトラゾリウム(MTT)色素を用いた比色定量法。培養細胞の生存率や増殖率の試験方法の一つ]およびDAPI検査[訳注:ジアミジノフェニルインドール(DAPI)蛍光色素を用いた顕微鏡観察法]を用いてDPSCの成長および増殖を調べた。その結果、ELF磁界は1 mT、20分間/日のばく露で増殖に対して最大の影響を生じた。対照群と比較して、全てのばく露群で生存率および増殖率が有意に高かった、と著者らは報告している。
周波数 | 50 Hz |
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波形 |
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ばく露の発生源/構造 |
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Sham exposure | A sham exposure was conducted. |
測定量 | 値 | 種別 | Method | Mass | 備考 |
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磁束密度 | 1 mT | - | 校正 | - | - |
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