この研究は、白血病細胞株のJurkat細胞、およびイン・ビトロで好中球細胞系統へ分化しつつあるヒト造血幹細胞CD34+の重要なエピジェネティック修飾に超低周波磁界(ELF-MF)が影響を与える能力があるか否かを調べた。その結果、複数回の反復実験において、顆粒球形成中の高精度全ゲノムプロファイリングは、ヒストン修飾のマーカ(H3K4me3(転写活性化)およびH3K27me3(転写抑制))もしくはDNAメチル化のパターンにELF-MFに依存する有意な変化を何も示さなかった;しかし、このようなヒストンおよびDNAの修飾プロファイルの再現性(変動性の再現)に対し、ELF-MFばく露は一貫した影響を示した;この再現性は、確率的性質をもちながら、ゲノムコンテクストの選好性を示すように見える;以上のデータは、ELF-MFばく露が、特に細胞分化中の抑制状態から活性状態への移行中に、活性クロマチンを安定化させることを示している、と報告している。
ばく露 | パラメータ |
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ばく露1: 50 Hz |
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