超低周波(ELF)磁界への親の職業的ばく露と、その子どもの急性リンパ芽球性白血病(ALL)及び急性骨髄性白血病(AML)のリスクについての先行研究では、一貫性が認められていないことから、この研究は、「小児白血病国際コンソーシアム(CLIC)」においてこの疑問を評価した。小児白血病の症例9,723人及び対照17,099人を含む11報の症例対照研究をプールし、職業‐ばく露マトリクス(JEM)とのリンク付けによってELF磁界への親の職業的ばく露を推定した。プール分析及びメタ分析において、ロジスティック回帰モデルを用いてオッズ比(OR)及び95%信頼区間(CI)を推定した。その結果、受胎時の父親のELF磁界への職業的ばく露が≤0.2 µTと比較した場合の、>0.2 µTについてのプール分析からのORは、ALLで1.04(95% CI = 0.95-1.13)、AMLで1.06(95% CI = 0.87-1.29)であった。これに相当する妊娠中の母親のELF磁界ばく露についてのORは、ALLで1.00(95% CI = 0.89-1.12)、AMLで0.85(95% CI = 0.61-1.16)であった。ばく露レベルの上昇に伴うOR上昇の傾向は認められなかった。また、メタ分析でも関連は認められなかった。包括的・定量的JEMを用いたこの大規模な国際データセットでは、ELF磁界への親の職業的ばく露と小児白血病との関連は認められなかった、と著者らは結論付けている。
グループ | 説明 |
---|---|
参照集団 1 | paternal occupational exposure: ≤ 0.2 µT |
集団 2 | paternal occupational exposure: > 0.2 µT |
参照集団 3 | paternal occupational exposure: ≤ 0.2 µT |
集団 4 | paternal occupational exposure: ≤ 0.2 µT |
集団 5 | paternal occupational exposure: ≤ 0.2 µT |
集団 6 | paternal occupational exposure: ≤ 0.2 µT |
参照集団 7 | maternal occupational exposure: ≤ 0.2 µT |
集団 8 | maternal occupational exposure: > 0.2 µT |
参照集団 9 | maternal occupational exposure: ≤ 0.2 µT |
集団 10 | maternal occupational exposure: ≤ 0.2 µT |
集団 11 | maternal occupational exposure: ≤ 0.2 µT |
タイプ | 値 |
---|---|
合計 | 26,822 |
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