＜目的＞ほ乳類のＣＨＯ培養細胞などにＨ2Ｏ2により生じたDNAのsingle strand break, double strand breakの修復率に50Hz電界（0.2～20kV/m）、磁界（0.002～2G）、電磁界は影響を与えるかどうかを調べる。 ＜方法＞CHO、CCRF-CEM、Mc Coy'sの細胞にH202で処理し、そこに50Hz電界（0.2～20kV/m）、磁界（0.002～2G）、電磁界を曝露する。 ＜結果＞電磁界曝露が酸化的に損傷させられた細胞のDNA損傷の修復に含まれる方法に影響を与えず、活性酸素種によって誘起される発ガン、プロモータへの細胞応答での変化を電磁界は引き起こさないであろう。
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