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キーワード: exposure, Exposition, ばく露

• 2023, Spandole-Dinu S, Catrina AM, Voinea OC, Andone A, Radu S, Haidoiu C, Călborean O, Popescu DM, Suhăianu V, Baltag O, Tuță L, Roșu G
  [マウスの脳に対するLTE高周波電磁放射ばく露についてのパイロット研究] [med./bio.]
  Int J Environ Res Public Health 20 (4): 3025
• 2023, Kaur P, Rai U, Singh R
  [高周波放射からの雄性の生殖衛生に対する遺伝毒性リスク] [review]
  Cells 12 (4): 594
• 2023, Ma L, Tian S, Zhang HL, Wang JY, Wang JW, Yan HL, Hu XG, Shao Q, Guo JM
  [核電磁パルスによる脳損傷に対する水素分子の保護効果のトランスクリプトミクスおよびメタボロミクス研究] [med./bio.]
  Front Public Health 11: 1103022
• 2023, Yazdanpanahi M, Namazi A, Shojaeifard MB, Nematolahi S, Pourahmad S
  [雄ラットの学習および記憶に対する携帯電話妨害装置の放射の影響の評価] [med./bio.]
  J Biomed Phys Eng 13 (1): 29-38
• 2023, Coronado LM, Stoute JA, Nadovich CT, Cheng J, Correa R, Chaw K, González G, Zambrano M, Gittens RA, Agrawal DK, Jemison WD, Donado Morcillo CA, Spadafora C
  [マイクロ波はマラリア原虫を非熱的に駆除できる] [med./bio.]
  Front Cell Infect Microbiol 13: 955134
• 2023, Shirbandi K, Khalafi M, J Bevelacqua J, Sadeghian N, Adiban S, Bahaeddini Zarandi F, Mortazavi SA, Mortazavi SH, Mortazavi SMJ, S Welsh J
  [アルツハイマー病の有望な治療法としての携帯電話から発せられる低レベル高周波電磁界へのばく露：スコーピングレビュー研究] [review]
  J Biomed Phys Eng 13 (1): 3-16
• 2023, Bradlaugh AA, Fedele G, Munro AL, Hansen CN, Hares JM, Patel S, Kyriacou CP, Jones AR, Rosato E, Baines RA
  [ショウジョウバエのラジカルペア磁気感受性の必須要素] [med./bio.]
  Nature 615 (7950): 111-116
• 2023, Franczak A, Drzewiecka EM, Kozlowska W, Zmijewska A, Wydorski PJ
  [超低周波電磁界（ELF-EMF）は子宮筋層におけるエピジェネティックな調節に変化を生じる‐イン・ビトロ研究] [med./bio.]
  Theriogenology 200: 136-146
• 2023, Lazzarini R, Eléxpuru-Zabaleta M, Piva F, Giulietti M, Fulgenzi G, Tartaglione MF, Zingaretti L, Tagliabracci A, Valentino M, Santarelli L, Bracci M
  [ヒトMDA-MB-231乳がん細胞に対する超低周波磁界の影響：プロテオミクス特性評価] [med./bio.]
  Ecotoxicol Environ Saf 253: 114650
• 2023
  [IEC/IEEE国際規格草案‐ハンドヘルドおよびボディマウント式のワイヤレス通信デバイスからの高周波電磁界へのヒトのばく露の比吸収率の評価のための測定手順‐その3：ベクトル測定に基づくシステム（300 MHzから6 GHzの周波数範囲）] [temp.]
  International Electrotechnical Commission (IEC), Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), P62209-3/ED2, Feb 2023: 1-209, ISBN 978-1-5044-9471-7