EMF-Portal | 文献検索結果

2020, Dueñas JA, Weiland C, Núñez MA, Ruiz-Rodriguez FJ

Effect of low intensity static magnetic field on purified water in stationary condition: Ultraviolet absorbance and contact angle experimental studies [med./bio.]

J Appl Phys 127 (13): 133907

2020, Kim K, Lee YS, Kim N, Choi HD, Kang DJ, Kim HR, Lim KM

[イン・ビトロでの皮膚色素沈着に対するLTEおよび5G帯域幅の電磁波の影響] [med./bio.]

Int J Mol Sci 22 (1): E170

2020, Alcocer G, Alcocer P, Marquez C

[電離および非電離放射線による火傷] [basics]

J Burn Care Res: iraa180 [in press]

2020, Sarraf M, Kataria S, Taimourya H, Santos LO, Menegatti RD, Jain M, Ihtisham M, Liu S

[詳細] [植物における磁界応用：概観] [review]

Plants 9 (9): E1139

2020, Hochstoeger T, Al Said T, Maestre D, Walter F, Vilceanu A, Pedron M, Cushion TD, Snider W, Nimpf S, Nordmann GC, Landler L, Edelman N, Kruppa L, Dürnberger G, Mechtler K, Schuechner S, Ogris E, Malkemper EP, Weber S, Schleicher E, Keays DA

[ハトのCRY4［クリプトクロム4：青色光受容体タンパク質の一種］の生物物理学的、分子的、および解剖学的展望：光ベースの量子磁気センサの候補] [tech./dosim.]

Sci Adv 6 (33): eabb9110

2020, Modenese A, Gobba F

[詳細] [非電離放射線への職業的ばく露：主な影響および欧州指令に従った労働者の健康サーベイランスの基準] [review]

2020 IEEE International Conference on Environment and Electrical Engineering and 2020 IEEE Industrial and Commercial Power Systems Europe (EEEIC / I&CPS Europe), Madrid, Spain. IEEE: pp. 1-6; ISBN 978-1-7281-7456-3

2020, Szilágyi Z, Németh Z, Bakos J, Necz PP, Sáfár A, Kubinyi G, Selmaoui B, Thuróczy G

[イン・ビトロで3D再構築したヒト皮膚に対する紫外線および携帯電話の無線周波放射への複合ばく露後のサイトカイン産生による炎症の評価] [med./bio.]

Int J Environ Res Public Health 17 (12): E4401

2020, Son M, Park J, Oh S, Choi J, Shim M, Kang D, Byun K

[無線周波照射はマウスの皮膚でのUVB誘発性酒さ様皮膚炎における血管新生および炎症を緩和する] [med./bio.]

Exp Dermatol 29 (7): 659-666

2020, Nitayavardhana S, Wanitphakdeedecha R, Ng JNC, Eimpunth S, Manuskiatti W

[アジア人の萎縮性にきび瘢痕の治療における無線周波ナノニードルシステムの効能および安全性] [med. app.]

J Cosmet Dermatol 19 (7): 1636-1641

2020, Thukral R, Gulshan, Kumar A, Arora AS

[ヒトの健康に対する電磁スペクトルが異なる放射の影響] [basics]

2020 IEEE International Students' Conference on Electrical,Electronics and Computer Science (SCEECS), Bhopal, India. IEEE: pp. 1-6; ISBN 978-1-7281-4863-2