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165件の論文が見つかりました。

キーワード: percentile, Perzentil, 百分位数

• 2023, Van Hoornweder S, Nuyts M, Frieske J, Verstraelen S, Meesen RLJ, Caulfield KA
  [系統的レビューならびに大規模経頭蓋電気刺激および経頭蓋磁気刺激の電界モデリング研究は、測定するアウトカムの選択が如何に個人およびモンタージュに特有の方法で結果を変化させるかを明らかにする] [review]
  bioRxiv: the Preprint Server for Biology (bioRxiv), 2023.02.22.529540
• 2023, Fu Z, Abbott CC, Miller J, Deng ZD, McClintock SM, Sendi MSE, Sui J, Calhoun VD
  [大脳‐小脳の機能的神経可塑性は電気けいれん療法の結果に対する電界の影響を媒介する] [med. app.]
  Transl Psychiatry 13: 43
• 2023, Xi J, Christ A, Kuster N
  [低周波磁界の近傍界ばく露の基本制限への適合の効率的な証明のための包含係数] [tech./dosim.]
  Phys Med Biol 68 (3): 035007
• 2023, Haussmann N, Zang M, Mease R, Schmuelling B, Clemens M
  [協調シミュレーションスカラーポテンシャル有限要素法を利用した高分解能のボクセルモデルでのワイヤレス電力伝送システムの磁界ドシメトリシミュレーション] [tech./dosim.]
  Int J Numer Model 36 (3): e3075
• 2022, Yang X, Guo R, Zheng J, Chen J
  [様々な姿勢の患者における心臓リズム管理（CRM）のためのRF誘導加熱] [dev./impl.]
  2022 IEEE International Symposium on Electromagnetic Compatibility & Signal/Power Integrity (EMCSI), Spokane, WA, USA. IEEE: pp. 606-609; ISBN 978-1-6654-0930-8
• 2022, Diao Y, Rashed EA, Hirata A
  [一様な低周波磁界へのばく露に対する滑らかな導電性を有する学習ベースの頭部モデルにおける誘導電界] [tech./dosim.]
  IEEE Trans Electromagn Compat 64 (6): 1969-1977
• 2022, Nandi T, Puonti O, Clarke WT, Nettekoven C, Barron HC, Kolasinski J, Hanayik T, Hinson EL, Berrington A, Bachtiar V, Johnstone A, Winkler AM, Thielscher A, Johansen-Berg H, Stagg CJ
  [経頭蓋直流刺激によるガンマアミノ酪酸の変化はM1のシミュレートされた電界と関連しており、これは磁気共鳴分光法のボクセルにおける灰白質体積が介在する影響である] [tech./dosim.]
  Brain Stimul 15 (5): 1153-1162
• 2022, Uenishi S, Tamaki A, Yamada S, Yasuda K, Ikeda N, Mizutani-Tiebel Y, Keeser D, Padberg F, Tsuji T, Kimoto S, Takahashi S
  [統合失調症および気分障害の患者における前頭前野経頭蓋直流刺激のための電界の計算モデリング] [tech./dosim.]
  Psychiatry Res Neuroimaging 326: 111547
• 2022, Van Hoornweder S, Caulfield KA, Nitsche M, Thielscher A, Meesen R
  [二つのサンプルでの300人の参加者における電界強度の前向き個人化ばく量決定を通じた経頭蓋電気刺激のばらつきに対処する：2-SPEDアプローチ] [tech./dosim.]
  J Neural Eng 19 (5): 056045
• 2022, Xi J, Kuster N
  [誘導式WPTシステムの効率的なTier 4適合性評価] [tech./dosim.]
  2022 Wireless Power Week (WPW), Bordeaux, France. IEEE: pp. 64-67; ISBN 978-1-6654-8446-6