文献検索結果

20070件の論文が見つかりました。

キーワード: EMF, "Elektromagnetisches Feld", "electromagnetic field", 電磁界

• 2006, Balmori A
  [詳細] [両生類の減少における電磁汚染の発生率：これはパズルの重要なピースか？] [review]
  Toxicol Environ Chem 88 (2): 287-299
• 2006, Calabrese M, d'Ambrosio G, Massa R, Petraglia G
  [1.95 GHz周波数の高効率インビトロ導波管ばく露装置] [tech./dosim.]
  IEEE Trans Microw Theory Tech 54 (5): 2256-2264
• 2006, Vian A, Roux D, Girard S, Bonnet P, Paladian F, Davies E, Ledoigt G
  [詳細] [マイクロ波照射は植物の遺伝子発現に影響する] [med./bio.]
  Plant Signal Behav 1 (2): 67-70
• 2006, Roux D, Vian A, Girard S, Bonnet P, Paldian F, Davies E, Ledoigt G
  [詳細] [電磁界（900 MHz）はトマトに一定の分子反応をもたらす] [med./bio.]
  Physiol Plant 128 (2): 283-288
• 2006, Cvetkovic D, Cosic I
  [ヒトEEG活動の自動化超低周波数磁界刺激] [tech./dosim.]
  Integr Comput Aided Eng 13 (4): 313-328
• 2006, Garilevich BA, Andrianov YV, Olefir YV, Zubkov AD, Rotov AE
  [悪性新生物の複合治療における集中衝撃波とパルス電界の使用に関する見通し] [tech./dosim.]
  2006 International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology Society, New York, NY, USA. IEEE: pp. 6370-6372; ISBN 978-1-4244-0032-4
• 2006, Sunderam S, Chernyy N, Mason J, Peixoto N, Weinstein SL, Schiff SJ, Gluckman BJ
  [慢性的に植え込まれた動物における電界照射による発作調整] [med./bio.]
  2006 International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology Society, New York, NY, USA. IEEE: pp. 1612-1615; ISBN 978-1-4244-0032-4
• 2006, Bikson M, Radman T, Datta A
  [詳細] [印加電界によるニューロン処理の合理的な調節作用] [review]
  2006 International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology Society, New York, NY, USA. IEEE: pp. 1616-1619; ISBN 978-1-4244-0032-4
• 2006, Feitosa M, Fontana E
  [スリンキー型磁気刺激装置の誘導性電界分布に関する一般化された級数解] [tech./dosim.]
  2006 International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology Society, New York, NY, USA. IEEE: pp. 4655-4658; ISBN 978-1-4244-0032-4
• 2006, Nakano A, Kato K, Tsuchiya K, Nakazawa K, Yabuhara T, Uzuka T, Takahashi H
  [深部腫瘍ハイパサーミアに用いる凹型共振キャビティ照射装置の試験的加熱特性] [tech./dosim.]
  2006 International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology Society, New York, NY, USA. IEEE: pp. 4058-4061; ISBN 978-1-4244-0032-4