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キーワード: "low frequency", Niederfrequenz, LF, NF, 低周波

• 2019, Li H, Liu S, Yang X, Du Y, Luo J, Tan J, Sun Y
  [ナノ秒パルス化電界にばく露したJurkat細胞に関与する細胞プロセス] [med./bio.]
  Int J Mol Sci 20 (23): E5847
• 2019, Götte S, Ludewig Y
  [ドイツは電磁波についてどう考えているか？] [info]
  Federal Office for Radiation Protection (BfS), Ressortforschungsberichte zur kerntechnischen Sicherheit und zum Strahlenschutz, BfS-RESFOR-154/19: 1-94
• 2019, Xiong J, Wang H, Bao Y, Guo Y, Sun Y
  [加齢ラットにおいて迷走神経の電気刺激は炎症を抑制し、術後早期の認知機能障害を改善する] [med. app.]
  BMC Anesthesiol 19: 217
• 2019, Ehnert S, Schröter S, Aspera-Werz RH, Eisler W, Falldorf K, Ronniger M, Nussler AK
  [詳細] [外傷後の骨再生及び整形外科における超低周波パルス化電磁界についての洞察] [review]
  J Clin Med 8 (12): E2028
• 2019, Scarfì MR, Mattsson MO, Simkó M, Zeni O
  [生物学及び医学における電界、磁界及び電磁界：機序から生物医学的応用まで] [comment]
  Int J Environ Res Public Health 16 (22): E4548
• 2019, Ziegler P, Nussler AK, Wilbrand B, Falldorf K, Springer F, Fentz AK, Eschenburg G, Ziegler A, Stöckle U, Maurer E, Ateschrang A, Schröter S, Ehnert S
  [パルス化電磁界治療は高齢患者における高位脛骨骨切り術後の骨の統合を改善する‐無作為化、プラセボ対照、二重盲検試験] [med. app.]
  J Clin Med 8 (11): E2008
• 2019, Sekiba Y, Yamazaki K
  [ELF及び中間周波の均一な磁界によってヒトモデルに誘導される内部電界の計算] [tech./dosim.]
  2019 Joint International Symposium on Electromagnetic Compatibility, Sapporo and Asia-Pacific International Symposium on Electromagnetic Compatibility (EMC Sapporo/APEMC), Sapporo, Japan. IEEE: pp. 83-86; ISBN 978-1-7281-1639-6
• 2019, Tremblay SA, Chapman CA, Courtemanche R
  [小脳虫部のパターン化刺激後の状態依存性の前頭前野局所野外電位活動の同調] [med./bio.]
  Front Syst Neurosci 13: 60
• 2019, Bodemann R, Finke J, von Freeden J, Gritsch T, Heinrich H, Hoffmann M, Jeschke P, Joosten S, Krischek R, Reidenbach HD, Schiessl K, Schreiber M, Schühle E, Storch D, Stunder D
  [実践的ガイド「電磁界」] [info]
  Fachverband für Strahlenschutz e. V. (FS), FS-2019-180-AKNIR: 1-111
• 2019, Feng Z, Diao Y, Sun W, He Y, Leung PSW
  [多階建て駐車場における電気自動車用ワイヤレス充電システムへのヒトのばく露] [tech./dosim.]
  2019 Joint International Symposium on Electromagnetic Compatibility, Sapporo and Asia-Pacific International Symposium on Electromagnetic Compatibility (EMC Sapporo/APEMC), Sapporo, Japan. IEEE: pp. 48-51; ISBN 978-1-7281-1639-6