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キーワード: "Institute of Electrical and Electronics Engineers", IEEE, 米国電気電子学会

• 2010, Akimoto S, Kikuchi S, Nagaoka T, Saito K, Watanabe S, Takahashi M, Ito K
  [妊婦腹部に近接した携帯無線端末による胎児の比吸収率の評価] [tech./dosim.]
  IEEE Trans Microw Theory Tech 58 (12): 3859-3865
• 2010, Okano Y, Sato T, Sugama Y
  [光ファイバ温度センサを用いた比吸収率測定法] [tech./dosim.]
  IEEE Trans Instrum Meas 59 (6): 1705-1714
• 2010, Lin JC
  [携帯電話ユーザでの腫瘍発生率に関する疫学的研究] [comment]
  IEEE Microw Mag 11 (7): 36-38
• 2010, Lin JC
  [携帯電話の頻繁な使用による小児での認知的変化] [comment]
  IEEE Antennas Propag Mag 52 (1): 232-234
• 2010, Mi Y, Yao C, Li C, Sun C, Tang J, Yang F, Wen Y
  [指数関数的減衰のナノ秒パルス電界による担がんBALB / cヌードマウスにおけるイン・ビボでのカスパーゼ-3活性化] [med./bio.]
  IEEE Trans Plasma Sci 38 (8): 1963-1971
• 2010, Akram G
  [比吸収率（SAR）の後処理の実施：数値アプローチ] [tech./dosim.]
  IEEE Antennas Propag Mag 52 (5): 180-184
• 2010, Katsuki S, Mitsutake K, Yano M, Akiyama H, Kai H, Shuto T
  [HeLa細胞でのアポトーシス活性に対するバースト100MHz正弦波電界の非熱的影響および一過性の熱的影響] [med./bio.]
  IEEE Trans Dielectr Electr Insul 17 (3): 678-684
• 2010, Kühn S, Kuster N
  [非一様電磁界分布においてRF安全限度値の遵守を証明するための測定技術の評価] [tech./dosim.]
  IEEE Trans Electromagn Compat 52 (4): 820-828
• 2010, Kirawanich P, Islam NE
  [狭帯域非電離放射線によるリョクトウおよびクウシンサイの収量拡大] [med./bio.]
  IEEE Trans Plasma Sci 38 (8): 1942-1948
• 2010, Stratakis DI, Miaoudakis AI, Zacharopoulos VG, Xenos TD
  [複数の狭帯域電磁界測定の空間平均について：方法および不確かさ推定] [tech./dosim.]
  IEEE Trans Instrum Meas 59 (6): 1520-1536
• 2010, Croce RP, De Vita A, Pierro V, Pinto IM
  [非熱的レベルのパルス電磁界ばく露の細胞における影響に関する熱的モデル] [tech./dosim.]
  IEEE Trans Plasma Sci 38 (2): 149-155
• 2010, Canova A, Freschi F, Giaccone L, Repetto M
  [パルス磁界への労働人口のばく露] [tech./dosim.]
  IEEE Trans Magn 46 (8): 2819-2822
• 2010, Hirata A, Fujiwara O, Nagaoka T, Watanabe S
  [共振周波数での平面波ばく露による人体モデルでの全身平均SARの推定] [tech./dosim.]
  IEEE Trans Electromagn Compat 52 (1): 41-48
• 2010, Paffi A, Liberti M, Lopresto V, Merla C, Lodato R, Lovisolo GA, Apollonio F
  [Wi-Fi周波数でのイン・ビトロ実験のためのワイヤパッチセルばく露システム] [tech./dosim.]
  IEEE Trans Microw Theory Tech 58 (12): 4086-4093
• 2010, Baldwin WH, Gregory BW, Osgood CJ, Schoenbach KH, Kolb JF
  [ナノ秒パルス電界ばく露後の膜透過性および細胞生存：ばく露-培地組成の重要性] [med./bio.]
  IEEE Trans Plasma Sci 38 (10): 2948-2953
• 2010, Ju M, Yang K, Myung S
  [韓国の都市人口サンプルにおける24時間のELF磁界への職場および居住環境でのばく露] [tech./dosim.]
  IEEE Trans Electromagn Compat 52 (4): 843-848
• 2010, Sharifi M, Nasiri P, Monazzam MR
  [テヘランの高電圧（230 kV）変電所からの磁界の測定とその影響の評価] [foreign-language]
  Iranian J Med Phys 7 (2): 49-56
• 2010, Zilberti L, Pons E, Bottauscio O, Chiampi M, Pastorelli M
  [HVDC地中線周辺の電磁環境の評価] [tech./dosim.]
  IEEE Transactions on Power Delivery 25 (4): 3085-3094
• 2010, Lin JC
  [脳腫瘍リスクと携帯電話使用] [comment]
  IEEE Antennas Propag Mag 52 (4): 166-167
• 2010, Ait-Aissa S, Billaudel B, Poulletier de Gannes F, Hurtier A, Haro E, Taxile M, Ruffie G, Athane A, Veyret B, Lagroye I
  [詳細] [子宮内でWi-Fiシグナルにばく露された幼若ラットの脳におけるグリオーシスおよびアポトーシスのイン・サイチュ検出] [med./bio.]
  CR physique 11 (9-10): 592-601
• 2010
  [詳細] [IEEE Std C95.3.1（2010年）：0 Hz-100 kHz電磁界人体ばく露の観点での電界、磁界、および電磁界の測定および計算のためのIEEE推奨の実際的方法] [guideline]
  Institute of Electrical and Electronics Engineers (IEEE), IEEE Std C95.3.1-2010: 1-101, ISBN 978-0-7381-6261-4
• 2010, Chi J, Liu F, Xia L, Shao T, Mason DG, Crozier S
  [改良円筒座標系FDTD法およびMRIにおける電磁界－生体組織の相互作用への応用] [tech./dosim.]
  2010 Annual International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology, Buenos Aires, Argentina. IEEE: pp. 3154-3157; ISBN 978-1-4244-4123-5
• 2010, Laqua D, Just T, Husar P
  [低電力イン・ビボRF送信を可能にするための生体組織減衰特性の測定] [tech./dosim.]
  2010 Annual International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology, Buenos Aires, Argentina. IEEE: pp. 1437-1440; ISBN 978-1-4244-4123-5
• 2010, Lazutkin D, Husar P
  [ヒト脳に関する電磁気刺激のモデリング] [tech./dosim.]
  2010 Annual International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology, Buenos Aires, Argentina. IEEE: pp. 581-584; ISBN 978-1-4244-4123-5
• 2010, Deng ZD, Hardesty DE, Lisanby SH, Peterchev AV
  [脳深部刺激用インプラントの存在下での電気けいれん療法：電界の影響] [tech./dosim.]
  2010 Annual International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology, Buenos Aires, Argentina. IEEE: pp. 2049-2052; ISBN 978-1-4244-4123-5