この研究は、22 kHzまたは250 kHzの中間周波（IF）磁界ばく露がヒト皮膚細胞に与える影響を調べた。また、適応応答現象、すなわちIF磁界ばく露が電離放射線の有害な遺伝毒性効果を軽減できるかどうかも検討した。線維芽細胞でイン・ビトロ研究を実施し、酸化ストレス、DNA損傷、および小核形成への影響を調査した。その結果、22 kHzのIF磁界ばく露により小核形成が減少し、250 kHzのIF磁界にばく露した線維芽細胞では酸化ストレスが有意に増加したことが確認された。電離放射線と組み合わせたIF磁界ばく露による保護効果または共遺伝毒性効果は検出できず、適応応答現象のエビデンスは見られなかった、と著者らは報告している。
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