[900 MHz高周波へのばく露後のヒトケラチノサイトのグローバルなDNAメチル化変化の分析] med./bio.

先行研究では、低強度の高周波（RF）電磁界ばく露後に起こる細胞変化のメカニズムが説明されているが、分子エピジェネティクスの役割は十分には調査されていない。特に未解決なのは、細胞が遺伝子発現を調節するために用いる強力なエピジェネティックなプロセスであるデオキシリボ核酸（DNA）のメチル化に対するRFの影響である。DNAメチル化は動的であり、RF電磁界ばく露などの外部刺激に応答して急速に引き起こされる可能性がある。この研究は、低ばく露量率（推定平均比吸収率（SAR） < 10 mW/kg）で900 MHzのRF電磁界に1時間ばく露したヒトケラチノサイトのDNAメチル化パターンの包括的な分析を行った。生物学的に適切な条件（37 °C、CO2濃度5%、湿度95%）下で細胞培養物をRF電磁界に安定してばく露できるようにした特性のばく露装置を用いた。RFばく露直後に全ゲノム重亜硫酸塩配列決定を実行し、DNAメチル化パターンの即時の変化を調べ、RFばく露したケラチノサイトにおける初期の示差的にメチル化された遺伝子を同定した。全体的な遺伝子発現を全ゲノム重亜硫酸塩配列決定と相関させることで、RFばく露に応答して差次的にメチル化され、差次的に発現する6つの共通の標的を特定した。その結果、RFに対する細胞応答における潜在的なエピジェネティックな役割が強調された。特に、同定された6つの標的は、RFばく露に対する即時応答のためのエピジェネティックなバイオマーカーである可能性がある、と著者らは結論付けている。