この研究は、間葉系幹細胞における活性酸素種（ROS）産生、ならびに細胞周期進行の変化およびおよび細胞死の刺激としての酸性pH条件に対する、20 mTの静磁界および超低周波（ELF、50 Hz）磁界の影響を調べた。その結果、静磁界、ELF磁界、および静磁界＋ELF磁界への同時ばく露は、ROSならびに抗酸化防御系である核因子赤血球2関連因子2（Nrf2）、スーパーオキシドジスムターゼ2（SOD2）、グルタチオン-S-トランスフェラーゼ（GST）の発現を増加させることが示された。また、細胞内pHはELF磁界または静磁界＋ELF磁界の存在下では減少したが、静磁界下では減少しなかった。これらのばく露によるROS含量の減少はpHの上昇につながった。更に、静磁界およびELF磁界が幹細胞の細胞プロセス（細胞周期、アポトーシス、ネクローシス）に及ぼす影響は異なっていた。静磁界は細胞の24時間後の生存率を高めたが、ELFまたは静磁界＋ELFはこれを低下させた、と著者らは報告している。
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