HL-60細胞内のCa2+濃度の正弦電界の影響を調べた。カルシウム濃度は擬似ばく露とばく露のサンプルで、fluo-3で測定した。外部電界の印加は2枚のキャパシタプレートを使用し、培養細胞への直接的な電界印加は2つのプラチナ電極により、0と100Hz、電界強度は1-2000Vpp/m(培地では0.1-1000Vpp/m)を選択して測定した。HL-60細胞のCa2+濃度に対する電界の有意な影響はなかった。
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