この研究は、カビの一種（Mycotypha africana）の発芽率に対する低レベルの低周波パルス磁界の影響を調べた。このカビは、培養条件に応じて、菌糸体（M-培養物）または酵母様の形態（Y-培養物）として増殖する。その結果、低強度では、5時間および24時間暴露は、Y-培養物の発芽率が2または3倍上昇したが、高強度（レベル「4」）では、4分の１にまで低下した；M-培養物においては、5時間ばく露では同じ反応パターンが示されたが、24時間ばく露後には何も影響がみられなかった； Y / M比は、低強度でY型に向かってシフトした、と報告している。
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To investigate the effects of a pulsed 150-MHz exposure on spore germination of the fungus Mycotypha africana.
Depending upon an appropriate carbon nutrition source the fungus M. africana grows as a mycelium (M-culture) or in a yeast-like form (Y-culture).
| 周波数 | 150 MHz |
|---|---|
| ばく露時間 | continuous for 5 h |
| Modulation type | cf. additional information |
|---|---|
| Additional information |
Modulated at 10 Hz, rise time < 5 ns and decay time 125 µs. |
| ばく露の発生源／構造 |
|
|---|---|
| Distance between exposed object and exposure source | 0.006 m |
| ばく露装置の詳細 | Petri dishes were placed on the top of the coil at a constant temperature of 21°C. |
| Additional information | Control dishes were kept in the same room at 3.5 m away from the coil where no magnetic field was detected. |
| 周波数 | 150 MHz |
|---|---|
| ばく露時間 | continuous for 24 h |
| Modulation type | cf. additional information |
|---|---|
| Additional information |
Modulated at 10 Hz, rise time < 5 ns and decay time 125 µs. |
| ばく露の発生源／構造 |
|
|---|---|
| Distance between exposed object and exposure source | 0.006 m |
5 h and 24 h exposure of Y-cultures led to the same effects. At low intensity levels an 2 to 3 fold increased germination rate was observed, whereas a mid intensity level decreased it up to a factor of 4.
M-cultures exhibited the same germination pattern for a 5 h exposure but no effect was found for a 24 h exposure.
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