【目的】低周波磁界が唾液中のカルシウム、マグネシウム、フッ化物成分に与える影響を算定するため。【実験対象と方法】62人の被験者に、初回の介入ではやや弱めの 3 μT の、以降14回の介入では 4 μT の低周波磁界による磁気刺激を受けてもらった。唾液は、磁気刺激の前、5回、10回、15回目の介入後にサンプルとして採取された。カルシウム及びマグネシウムのイオン成分は原子吸光分析法により計測された。フッ化物成分は、イオン選択電極を用いて測定された。【結果】磁気刺激前、5回、10回、15回目の介入後のカルシウム濃度間に、統計的に顕著な差異は見出されなかった。マグネシウム濃度については、10回目と、15回目介入後の間にのみ統計的に顕著な差異が認められた。フッ化物濃度については、統計的に顕著な差異はまったく見出されなかった。【結論】低周波磁界が、唾液中のカルシウム、マグネシウム、フッ化物成分に与える影響は皆無あるいは微弱である。
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