[Valic等（2009）へのコメントに対する回答] comment

著者らの研究 [Bioelectromagnetics 30:591-595 (2009)]に向けられたコメント[Swanson: 同誌 600 (2009)]に対する回答である。自分達の研究目的は、参考レベルは超過していないにも拘わらず、基本制限を超過するような人体内電界・磁界の分布の変化を起こす力がインプラントにあることを示すことにあったとし、一部Swansonの指摘を認めながら、以下のように主張している。『確かにICNIRPガイドラインについての明確化によれば、ELFの基本制限は頭部および体幹部の中枢神経系の防護を目的としている。ICNIRPは、同じばく露条件下において中枢神経系以外の組織ではこの基本制限より高い電流密度が許容されると認識している。しかし、どの程度高くなることが許容されるかは規定していない。したがって、今回の研究では中枢神経系と同じ基本制限値を用いた。長い形状のインプラントは顕著に電流密度分布を変化させるが、そのような影響が現れる領域はインプラントの表面に近い組織に限られることを示した。今回のケースでは中枢神経系は髄内釘に近くないため、中枢神経系のどの部分でも基本制限を超えることはない。しかし、中枢神経系に接近して植え込まれる種類のインプラントでは、このことは保証されないかも知れない。』