【背景】微小な電流が傷口に対し、有益で治療的な結果を生み出すものであることはさまざまの証拠によって示されているが、非侵襲性の電磁界（EMF）による治療は今まで、ほとんど、逸話的臨床報告から成り立っており、よく制御された、実験室におけるメカニズム研究にはまことに乏しい。本研究では、ひとつの、非侵襲性電磁界装置の皮膚創傷修復における効果と潜在的メカニズムを評価する。【素材と方法】非侵襲性電磁界がケラチン生成細胞と線維芽細胞に与える効果が、細胞増殖と、切開性傷口モデルにおける細胞遊走を分析することで査定された。非侵襲性電磁界処置を受けたあとのケラチン生成細胞における遺伝子発現の変化を査定するため、cDNA マイクロアレイと RT-PCR が使われた。【結果】ヒトの皮膚の培養ケラチン生成細胞をインビトロ分析することで、非侵襲性電磁界はケラチン生成細胞の遊走を加速することに強い効果を持ち、ケラチン生成細胞の増殖を促進することに相対的に弱い効果を持つことが例証された。細胞遊走と増殖に与える非侵襲性電磁界の正の効果はケラチン生成細胞に特化したもののようで、皮膚線維芽細胞に対しては以上のような効果は見られなかった。cDNA マイクロアレイと RT-PCR は、ばく露処置を受けたケラチン生成細胞におけるCRK7 と HOXC8 遺伝子の発現が増大していることを明らかに示した。【結論】本研究によって、ひとつの非侵襲性電磁界が、ケラチン生成細胞の遊走と増殖を促進するメカニズムを通じて傷口の上皮再形成を加速することが示唆される。そのメカニズムは、CRK7 と HOXC8 遺伝子を上方調節することに依るものである可能性がある。
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