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16775件の論文が見つかりました。

キーワード: frequency, Frequenz, 頻度、周波数

• 2010, Davis R, Gottschall J, Gutierrez A, Hohberger C, Veeramani D, Holcombe J
  [詳細] [13.56MHzの無線周波エネルギーへ長時間ばく露したAS-1赤血球および全血由来血小板に急性の有害なイン・ビトロ影響は見られず] [med./bio.]
  Transfusion 50 (7) Pt 2: 1596-1603
• 2010, Isaacson BM, Stinstra JG, MacLeod RS, Pasquina PF, Bloebaum RD
  [軍人の残肢に電気的に誘導された骨結合による異所性骨化の評価および生物学的測定指標モニタのための定量的測定システムの開発] [tech./dosim.]
  Ann Biomed Eng 38 (9): 2968-2978
• 2010, Kowalski M, Shepard RK, Kalahasty G, Wood MA, Ellenbogen KA
  [電磁干渉の珍しい原因：装置間の相互作用] [dev./impl.]
  Pacing Clin Electrophysiol 33 (8): 994-998
• 2010, Robertson JA, Juen N, Theberge J, Weller J, Drost DJ, Prato FS, Thomas AW
  [痛覚処理過程に対するパルス磁界の用量依存的効果の証拠] [med./bio.]
  Neurosci Lett 482 (2): 160-162
• 2010, Zyss T, Zieba A, Hese RT, Dudek D, Grabski B, Gorczyca P, Modrzejewska R
  [詳細] [磁気けいれん療法（MST）：確認された抗うつ剤効果を用いる現在の治療法よりも安全な発作活動誘発法] [review]
  Neuro Endocrinol Lett 31 (4): 425-437
• 2010, Thuroczy G, Gajsek P, Samaras T, Wiart J
  [欧州の電磁界ばく露に関する健康リスク評価ネットワーク（EFHRAN）：D4：欧州連合におけるばく露レベル（周波数、パターンおよび変調）に関する報告書　第１部：無線周波（RF）放射] [info]
  Executive Agency for Health and Consumers (EAHC), European Commission, 1-29
• 2010, Heinrich S, Thomas S, Heumann C, von Kries R, Radon K
  [詳細] [子ども及び思春期層におけるドシメトリで評価した無線周波電磁界へのばく露と急性症状との関連：人口ベースの横断的研究] [epidem.]
  Environ Health 9: 75
• 2010, Myoung HS, Park JS, Cho SP, Lee J, Choi HS, Lee KJ
  [灸による温度分布に類似したRF刺激装置の設計（予備的研究）] [tech./dosim.]
  2010 Annual International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology, Buenos Aires, Argentina. IEEE: pp. 1238-1241; ISBN 978-1-4244-4123-5
• 2010, Lee H, Xu Q, Ephrati J, Bergsneider M, Judy JW
  [植込み型カテーテルに用いる微細加工磁気アクチュエータのMRI適合性：機械的評価] [dev./impl.]
  2010 Annual International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology, Buenos Aires, Argentina. IEEE: pp. 907-910; ISBN 978-1-4244-4123-5
• 2010, Censi F, Calcagnini G, Mattei E, Triventi M, Bartolini P
  [医療環境におけるRFID：電磁両立性の規制問題] [misc.]
  2010 Annual International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology, Buenos Aires, Argentina. IEEE: pp. 352-355; ISBN 978-1-4244-4123-5