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キーワード: 成人, adult

• 2006, Dyer Jr RK, Nakmali D, Dormer KJ
  [SOUNDTECダイレクトシステムの安全性および磁気共鳴イメージングとの両立性] [dev./impl.]
  Laryngoscope 116 (8): 1321-1333
• 2006, Tan G, Rintala DH, Thornby JI, Yang J, Wade W, Vasilev C
  [脊髄損傷に伴う痛み治療のための頭蓋電気療法刺激の使用] [med. app.]
  J Rehabil Res Dev 43 (4): 461-474
• 2006, Irlbacher K, Kuhnert J, Roricht S, Meyer BU, Brandt SA
  [中枢および末梢の求心路遮断性疼痛：反復的経頭蓋磁気刺激による治療は？] [med. app.]
  Nervenarzt 77 (10): 1196-1203
• 2006, Fregni F, Boggio PS, Lima MC, Ferreira MJ, Wagner T, Rigonatti SP, Castro AW, Souza DR, Riberto M, Freedman SD, Nitsche MA, Pascual-Leone A
  [外傷性脊髄損傷での中枢痛の治療のための経頭蓋直流電流刺激に関する擬似対照第2相試験] [med. app.]
  Pain 122 (1-2): 197-209
• 2006, Andre-Obadia N, Peyron R, Mertens P, Mauguiere F, Laurent B, Garcia-Larrea L
  [痛み抑制のための経頭蓋磁気刺激：異なる周波数とプラセボとの比較および運動皮質刺激効率との相関に関する二重ブラインド研究] [med. app.]
  Clin Neurophysiol 117 (7): 1536-1544
• 2006, Lefaucheur JP, Drouot X, Menard-Lefaucheur I, Keravel Y, Nguyen JP
  [運動皮質rTMSは慢性神経因性疼痛における防御的皮質内抑制を回復させる] [med. app.]
  Neurology 67 (9): 1568-1574
• 2006, Beard BB, Kainz W, Onishi T, Iyama T, Watanabe S, Fujiwara O, Wang J, Bit-Babik G, Faraone A, Wiart J, Christ A, Kuster N, Lee AK, Kroeze H, Siegbahn M, Keshvari J, Abrishamkar H, Simon W, Manteuffel D, Nikoloski N
  [SAMファントムと解剖学的に正確な人体頭部モデルとにおける携帯電話によるSAR計算値の比較] [tech./dosim.]
  IEEE Trans Electromagn Compat 48 (2): 397-407
• 2006, SSI's Independent Expert Group on Electromagnetic Fields
  [SSI 報告書 2006：EMFと健康リスクに関する最近の研究] [info]
  Swedish Radiation Protection Authority (SSI), SSI Rapport: 2006:02: 1-44
• 2006, Lass J, Rodina A, Riipulk J, Hinrikus H, Bachmann T
  [詳細] [「注意の瞬き」検査中のヒトの意識的認知に対する変調電磁界の影響はあるか？] [med./bio.]
  2006 International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology Society, New York, NY, USA. IEEE: pp. 2924-2927; ISBN 978-1-4244-0032-4
• 2006, Bachmann M, Lass J, Kalda J, Sakki M, Tomson R, Tuulik V, Hinrikus H
  [詳細] [EEG解析での差の積分はマイクロ波によるヒトEEG変化を明らかにする] [med./bio.]
  2006 International Conference of the IEEE Engineering in Medicine and Biology Society, New York, NY, USA. IEEE: pp. 1597-1600; ISBN 978-1-4244-0032-4