文献検索結果

11件の論文が見つかりました。

キーワード: 導電結合, "galvanische Kopplung", Impedanzkopplung, "conductive coupling", "direct coupling"

• 2024, Ghosh S, Roy P, Lahiri D
  Development of Anisotropic Electrically Conductive GNP-Reinforced PCL-Collagen Scaffold for Enhanced Neurogenic Differentiation under Electrical Stimulation [med./bio.]
  Chem Asian J 19 (9): e202400061
• 2024, Silva JC, Meneses J, Garrudo FFF, Fernandes SR, Alves N, Ferreira FC, Pascoal-Faria P
  [直接結合型電気刺激による人間の間葉系幹／間質細胞の骨形成分化の改善に向けて：異なるプロトコルの比較研究] [med./bio.]
  Sci Rep 14: 5458
• 2018, Missoffe A, Aissani S
  Experimental setup for transfer function measurement to assess RF heating of medical leads in MRI: Validation in the case of a single wire [tech./dosim.]
  Magn Reson Med 79 (3): 1766-1772
• 2017, Cheikh M, Vassilieff Y, Fortes A, Benbouhout R, Foligné H
  [低周波ワイヤレス充電への人体ばく露：直接結合メカニズム及び医療機器との干渉] [tech./dosim.]
  2017 Progress in Electromagnetics Research Symposium - Fall (PIERS - FALL), Singapore. IEEE: pp. 1048-1054; ISBN 978-1-5386-1211-8
• 2016, Gao YM, Wu ZM, Pun SH, Mak PU, Vai MI, Du M
  [実際的な電流方式人体通信測定における新しい界磁回路の有限要素法モデリングとチャンネルゲイン推定] [tech./dosim.]
  Sensors 16 (4): E471-
• 2012, Alkatout I, Schollmeyer T, Hawaldar NA, Sharma N, Mettler L
  [腹腔鏡検査における電気メス手術の原則と安全対策] [basics]
  JSLS 16 (1): 130-139
• 2012
  [詳細] [高電圧交流電気牽引システムおよび／または高電圧交流電力供給システムに起因するパイプラインへの電磁干渉の影響;ドイツ語版EN 50443：2011; DIN EN 50443（VDE 0845-8）：2012-08] [guideline]
  German Commission for Electrical, Electronic & Information Technologies of DIN and VDE (DKE), DIN EN 50443 VDE 0845-8:2012-08
• 2012, Kavet R, Dovan T, Reilly JP
  [解剖学的に正確な電磁界ドシメトリと公表されている電磁界ばく露限度値との関連] [tech./dosim.]
  Radiat Prot Dosimetry 152 (4): 279-295
• 2009, Wegmueller MS, Huclova S, Froehlich J, Oberle M, Felber N, Kuster N, Fichtner W
  Galvanic Coupling Enabling Wireless Implant Communications [tech./dosim.]
  IEEE Trans Instrum Meas 58 (8): 2618-2625
• 1992, Loew LM
  [電圧感受性色素：DCとAC電界による膜電位の測定] [tech./dosim.]
  Bioelectromagnetics Suppl 1: 179-189