[In Vitro実験での紫外線と電磁界の同時ばく露システム] tech./dosim.

紫外線（UV）は乾癬などの皮膚病に良く使われる療法であるが、発ガンの副作用の危険性を持っている。電磁界（EMF）がUVと相乗的に作用しうる生物学的な証拠を我々は持っていることから、UVとEMFを結びつけた新しい治療プロトコールを乾癬の光療法を改善するために開発する可能性が生まれて来る。この研究で、私達はこの仮説を試すin vitro実験用のシステムについて報告する。UVBとEMFに細胞培養組織を同時にばく露するために、UVばく露システムを組み込んだメリット・コイルを組み立てた。そのコイルは擬似ばく露実験や実験モード（1.5mTまで、20, 000Hz）で機能する。100-1000J/m2のUVB照射量のためにコイル内に2つのUV電球を固定した。ばく露領域でEMFは均一で0.0038%である。ばく露用細胞は標準培養皿で培養され、特別設計された箱の中に置かれた。サランラップのふた（91%UV透過）で覆われた上室の箱の中には2つの皿があり、細胞はUVBとEMFにばく露される。下室には2つの皿があり、UVBから細胞は遮蔽されEMFにのみばく露される。箱の横にある通気孔と細胞培養箱から25cm離して置かれた送風機で温度制御した（±1℃）。箱の中の滅菌性を保つために、通気孔は細菌フィルターで覆われた。その箱のふたは細菌培養皿のふたにある細菌フィルターと同様に付加的な細胞を遮蔽するために、2つの空気方向転換を通した追加の換気装置を有している。