環境因子はDNAメチル化(DNAm)プロファイルの変化を生じ得ることが、多くの証拠によって示されている。ゲノムの反復要素(REs)の異常なDNAmはゲノムの不安定性を促進する可能性があることから、この研究は、高周波(RF)電磁界ばく露が異なるクラスのREs(長い間隔核要素-1、Alu短い間隔核要素、およびリボソーム繰り返し)のDNAmに影響を与えるかどうかを調べた。900 MHzのGSM変調RFにばく露した子宮頸がんおよび神経芽腫細胞株(HeLa、BE(2)C、SH-SY5Y)のDNAmプロファイルを、Illuminaベースの標的化深層亜硫酸水素塩シーケンシングアプローチを用いて分析した。その結果、RFばく露はいずれの細胞株においても、Alu要素のDNAmには影響しなかったが、平均プロファイルならびにメチル化および非メチル化CpG部位の構成の両方について、LINE-1およびリボソーム反復のDNAmに対し、細胞株ごとに異なる方法で影響力を及ぼした、と著者らは報告している。
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