[超低周波磁界への半導体労働者のピークばく露の特性評価] tech./dosim.

この研究は、半導体労働者の超低周波（ELF）磁界へのピークばく露を、工場のタイプ、運用および職種ごとに調べた。ポータブルEMDEXメーターを用いて、ウェハー製造および組み立て作業に従事する半導体労働者117人のELF磁界ばく露をモニタした。ELF磁界測定値を3秒ごとに記録し、職種または就労時間中の活動で分類した。文献レビューに基づき、ピークばく露レベルのカットオフ値に0.5および1 μTを用いた。その結果、拡散、イオン注入装置の動作、モジュール、チップ検査に従事する労働者は全員、労働時間を通じて、0.5 μT超のELF磁界にばく露されていた。電気設備の保守作業員が最も高いELF磁界のピークレベルにばく露されていた（0.5 μT超で平均2.5 μT、1 μT超で平均3.6 μT）。チップ検査作業員は、1日の平均ELF磁界ばく露レベルに対するピークレベルの寄与が最も高かった。対照的に、化学機械研磨技師、ウェハー検査作業員、クリーンルーム外の事務職労働者は、平均ばく露が0.5 μT未満で、0.5 μTまたは1 μTのピークレベル値を超えるばく露時間の割合も低く、1日のばく露レベルに対するピークレベルの寄与も低かった、と著者らは報告している。