[DNA損傷因子とパルス化磁界への共ばく露に誘発されるゲノムDNA損傷] med./bio.

Genomic DNA damage induced by co-exposure to DNA damaging agents and pulsed magnetic field

著者: López-Díaz B, Mercado-Sáenz S, Burgos-Molina AM, González-Vidal A, Sendra-Portero F, Ruiz-Gómez MJ
掲載誌: Int J Radiat Biol 2023; 99 (5): 853-865
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この研究は、パルス化磁界ばく露が、DNA損傷因子（ブレオマイシンおよびメタンスルホン酸メチル（MMS））との共ばく露で誘導したゲノムDNA損傷に変化を生じるかどうかを調べた。培養出芽酵母から作成したゲノムDNAをパルス化磁界（ピーク値1.5 mT、パルス反復周波数25 Hz）およびMMS（0-1%）（15-60分間）にばく露し、パルス化磁界およびブレオマイシン（0-0.6 IU/ml）（24-72時間）にばく露した。DNAに生じた損傷を電気泳動および画像解析で評価した。その結果、全てのばく露条件のグループで、パルス化磁界はMMSおよびブレオマイシンによるDNA損傷のレベルを高めた。観察された影響は、DNA損傷因子の種類、用量、パルス化磁界へのばく露時間が影響力を及ぼす多因子プロセスの結果である可能性がある、と著者らは結論付けている。

ばく露