最近の実験で、生きた細胞内の活性酸素種(ROS)の濃度に対するMHz範囲の弱い無線周波(RF)磁界の影響が報告されている。RFによって蓄積され得るエネルギーは分子の熱運動のエネルギーよりも数桁低いので、この影響はRF磁界と細胞内の一過性のラジカルペアとの相互作用によって生じ、これがROSの発生率に影響することが示唆されている。但し、現時点では、ナノスケールの生体分子系における特定の周波数と強度のRF磁界の影響を予測する方法は明確になっていない。この論文では、RF磁界強度及び周波数の関数としての細胞内での反応性擾乱の計算のための一般的なワークフローを提示することで、細胞内でのRFの影響を解釈するための可能性のあるレシピを示唆している。このワークフローを正当化するため、反応性ラジカルが実験の特定のパラメータにどのように反応し得るかを特に例示するため、一般的なスピン系におけるRF磁界の影響を考察している。最後に、生体細胞内のラジカルペアに対するRF磁界の影響の予測に、示唆されたワークフローを用いることができる、と著者らは主張している。
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