[半導体労働者における超低周波磁界ばく露の特徴] tech./dosim.

この研究は、半導体労働者の超低周波（ELF）磁界ばく露を評価し、ELF磁界ばく露に影響を及ぼす職業的特徴を同定するため、ウェハー製造及びチップ実装に従事する労働者117人に勤務時間中を通じて個人用ドシメータを装着させてばく露を評価した。全ての測定値を、オペレーション、職種、労働時間中の作業活動ごとに分類した。労働者のELF磁界ばく露を、磁界分布の四分位に基づいて分類した。その結果、ELF磁界ばく露の平均レベルは、ウェハー製造労働者で0.56 µT、チップ実装労働者で0.59 µT、電気技師で0.89 µTであった。ELF磁界ばく露は、工場、オペレーション、職種、活動の種類によって異なっていた。拡散及びチップ検査活動に従事する労働者のELF磁界ばく露が最も高かった。プロセス労働者のELF磁界ばく露は保守技術者よりも高かったが、ピークばく露及び／またはパターンはばらばらであった。ELF磁界ばく露レベルが最も高い四分位に属するグループは、拡散、イオン注入、モジュール及び検査のオペレータ、ならびに、拡散、モジュール及び検査オペレーションの保守技師であった。労働者のELF磁界ばく露は、オペレーション及び職種、ならびに活動または場所に大きく影響され得る、と著者らは結論付けている。