この研究は、培養中の小麦カルスへの低レベル静磁界ばく露（MF：7mT、ばく露時間は24、48、72、96、120時間）がDNAの損傷およびメチル化を引き起こすか否かを、ランダム増幅多型DNA法、および制限酵素での消化とランダム増幅の組合せ法により調べた。小麦成熟胚由来のカルス（分化していない植物細胞塊）の培養7日目または14日目にそれぞれのMFばく露を開始した。その結果、培養7日目および14日目のカルスのどちらにおいても、MFばく露時間を増加することでDNAメチル化が生じるようになった；多型およびDNAメチル化の発生割合は7日目カルスの方が高かった；メチル化が最も高く生じたのは、120時間ばく露した7日目カルスにおける25.1%であった、と報告している。
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