[スマートフォンのサムスンとノキアとの頭部電磁界の比吸収率の違いに関する調査] tech./dosim.

Survey on Different Samsung with Nokia Smart Mobile Phones in the Specific Absorption Rate Electrical Field of Head

掲載誌: Glob J Health Sci 2016; 8 (9): 53967-

この研究は、サムスン製およびノキア製の数種類のスマートフォンについて、測定器HI-3603-VDT/VLF(原文のまま)を用いて携帯電話からの電界強度を測定し、その測定値をICNIRPの式(SAR=σE2/ρ)に代入して900および1800MHzでのSAR値を算出し、比較をしたと記述している。(JEIC注:論文掲載写真で見る限り、測定器はETS-Lindgren社製HI3603 ELF/VLF電磁界モニタ計(周波数レンジ2k-300kHz)であり、携帯電話の測定には適さない。また、頭部内電界強度を測定したかのように論を進めているが測定方法の説明が全くなく、研究手法が科学的に意味をなしていない。)

ばく露