この論文は、著者グループが以前の研究で、「MRIの静磁界および携帯電話からのマイクロ波へのばく露が、歯のアマルガム充填物からの水銀放出を増加させる」ことを示したことを踏まえて、「歯にアマルガム充填物がある母体の電磁界ばく露は血中水銀レベルを上昇させ、自閉症発生率を増加させる可能性がある」との結論が導かれると述べ、今後の研究の必要性を訴えている。(JEIC注:電磁界ばく露による歯の充填物金属の微量漏出を否定する証拠を提出した多数の研究への言及がなく、また自閉症スペクトラムの病因論の論文サーベイも欠いている。)
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