この研究は、ナノ秒パルス電界（nsPEF）の電気穿孔で細胞膜に生じた小孔のその後の変化、細胞生存率、細胞死までの時間と様式（壊死またはアポトーシス）などとnsPEF後の細胞外カルシウムイオンレベルとの関係を、接着細胞を用いた実験で調べた。その結果、300ナノ秒PETによる穿孔の60－90分後にカルシウムイオンレベルを正常レベル2-5μMから2mMに増加させた場合、細胞株U937、CHO、BPAEの壊死が増加した、などを報告している。
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