この研究は、「経頭蓋直流刺激(tDCS)効果の個人間変動は解剖学的個人差により生じるのかも知れない」という仮説を検証するため、有限要素法(FEM)でシミュレーション計算した背外側前頭前皮質(DLPFC)の電流密度と単純なワーキングメモリ(WM)タスクの成績の関係を調べた。陽極および陰極の頭皮上の位置を一定にして、25人の健常な被験者にtDCSの前と後に3-back WMタスクを行わせた。その結果、tDCS後のWMタスクの成績が上昇した被験者では、DLPFCの電流密度は有意に高いことが示された、と報告している。
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